IoP團隊赴日本參加First Dry Process School及出席46th International Symposium on Dry Process國際學術會議

International Symposium on Dry Process (DPS)會議自1979年起由日本應用物理學會(Japan Society of Applied Physics, JSAP)發起創辦以來，至今已邁入第46屆。本次46th International Symposium on Dry Process (DPS2025)會議期間為2025年11月13日至11月14日，於日本四國愛媛縣松山市舉辦。

鑑於乾式製程在先進半導體製造、薄膜工程、表面改質及微奈米加工之重要性日益提升，因此深入理解其基礎原理和反應機制將成為推動次世代新興技術發展之必要條件。Dry Process School為DPS會議首次正式納入的教育性課程，旨在提升研究者對乾式製程技術與電漿科學之系統性理解。

本中心團隊夥伴中心主任何主亮講座教授、陳瑛鴻教授、謝秉諺教授與本校簡儀欣教授赴日參與本屆DPS國際會議，本中心協力夥伴志聖工業股份有限公司也共同出席本次會議，與國際學者及產業代表建立聯繫，了解乾式電漿製程於半導體之學術理論與前瞻應用、發展現況及趨勢脈動，本中心夥伴也於現場進行成果海報展示。

中心主任何主亮講座教授(左一)、陳瑛鴻教授(左二)、謝秉諺教授(左三)、簡儀欣教授(右三)、志聖工業許嘉麟課長(右二)及志聖工業林哲士專案經理(右一)於DPS2025會場之合影。

謝秉諺教授(左)、何主亮講座教授(中)及陳瑛鴻教授(右)於海報展示現場。